JCL-CK系列磁控溅射电源

主要用途

    CK系列逆变磁控溅射电源主要用于平衡和非平衡磁控溅射靶的直流磁控溅射、单极性脉冲磁控溅射、
中频孪生靶磁控溅射和中频非对称靶磁控溅射，它们是传统磁控溅射电源的更新换代产品。

主要特点

1．采用先进的开关电源技术，体积小、效率高、运行稳定、噪声低、对电网干扰小，在节能和镀膜工艺的稳定性
上比传统电源有明显的优势。

2．具备自动稳流功能，可在电网电压和负载大幅度波动情况下保证电源高效、稳定地工作，充分保证镀膜工艺的
重复性，精确控制膜厚和减少靶材用量。

3．针对新靶清洗时存在的频繁打火现象,  设计了抑制打火自动保护功能,既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了
靶面清洗速度。

4．具有电压陡降特性,可充分满足磁控溅射的特殊要求。

5．主要参数均可大范围连续调节。

    其中，孪生靶磁控溅射电源也称为中频磁控溅射电源，有正弦波、双极性方波两种输出方式（正弦波输出时工作
频率可高达200KHz），专用于孪生靶磁控溅射及绝缘材料的磁控溅射镀膜工艺，是镀制ITO膜、介质膜、绝缘保护膜
等产品必备的专用电源。