日期:2019-02-20 08:18
20h后氧化增重基本处于稳定状态，这是因为发生在试样表面的氧化产生了稳定的氧化膜如SiO2，能够阻止氧化的进一步发生。由图5(a)还可发现，1073及1173K下试样5h内氧化增重遵循直线规律，之后遵循抛物线规律。这是因为氧化反应初期，试样表面氧化膜还未形成，空气中的氧向基体扩散不受限制，扩散速度较快，界面处的氧化反应为限制性环节；当氧化反应发生一定时间后，试样表面的氧化层已基本形成且在不断增厚，空气中的氧向基体扩散受限，扩散速度变慢，氧的扩散为限制性环节。
由图５(b)可知，与1073及1173K相比，1273K下试样氧化速度明显